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【材料/设备】昭和电工扩产半导体材料 将建设上海第二工厂

来源:全球半导体观察       

1月8日,日本昭和电工株式会社官网发布公告,为了强化电子材料用高纯度气体事业,决定在上海生产基地——上海昭和电子化学材料有限公司(以下简称“上海昭和”)的旁边取得第二工厂建设用地,建设高纯度N2O(一氧化二氮)和高纯度C4F8(八氟环丁烷)的生产设施,以及高压气体危险品仓库。

据介绍,高纯度N2O主要是半导体及显示屏制造时的氧化膜的氧来源的特种气体,高纯度C4F8主要是这种氧化膜的微细加工(蚀刻)时的特种气体。昭和电工表示,由于第5代移动通信(5G)等信息通信领域的发展,以及中国政府的产业培育政策,预计今后中国的半导体及显示屏市场(有机EL电视机等)将会扩大。

昭和电工指出,目前公司在川崎事业所和韩国基地生产高纯度N2O,并在川崎事业所和上海基地(上海昭和第一工厂)生产高纯度C4F8。为了提高对日益增长市场的稳定供应能力,昭和电工正致力于进一步推进“地产地销”的政策。同时,在中国逐年加强对化学品的监管的形势下,在上海建设并完善本公司拥有的高压气体危险品仓库,对增强供应链、提高竞争力将大有帮助。

根据昭和电工公布的资料,上海昭和第二工厂面积约10000平米,计划建设高纯度N2O年生产能力1000吨、高纯度C4F8 年生产能力 600吨、高压气体危险品仓库,第二工厂计划于2021年下半年投产。

此外,由于预计中国台湾的半导体市场同样也会扩大,昭和电工子公司“台湾昭和化学品生产股份有限公司”也将新建年产150吨高纯度C4F8的生产设施(计划2020年春投产)。本次昭和电工在上海和台湾的投资总额约为30亿日元。

资料显示,昭和电工是一家综合性集团企业,产品涉及到石油、化学、无机、铝金属、电子信息等众多领域。2019年12月,昭和电工宣布成功收购日立化成,后者是电子电气材料领域的主要企业之一,在半导体材料方面具有领先优势。

图片声明:封面图片来源于昭和电工官网

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