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上海临港新片区重点项目传芯半导体主体结构封顶

来源:全球半导体观察整理       

据中电二公司微信公众号消息显示,2022年1月13日,上海传芯半导体有限公司L01-02项目封顶。

此前相关报道显示,上海传芯半导体L01-02项目是临港新片区的重点项目。2021年3月31日,上海传芯半导体掩模基版研发及产业化项目启动仪式举行。启动仪式上,传芯半导体董事长黄昶程表示,未来,传芯半导体将在临港新片区投资建设国内首条半导体级14nm光掩膜基板生产线,该半导体级先进制程光掩膜基板生产线的落地,将使光掩膜产业链中关键产品实现本地化。

公开资料显示,光掩膜一般也称光罩、掩膜版,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成:基板和不透光材料。

业内人士称,光掩膜技术是光刻产业当中重要的一个环节,通过光刻技术将掩膜版上的电路图案复制到晶圆上,从而批量化生产芯片等产品。目前随着晶体管变得越来越小,光掩膜的制造也变得越来越复杂。

封面图片来源:拍信网