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【IC设计】ASML今年营收成长上看25% EUV累积未出货订单已达27台

来源:财讯快报    原作者:李纯君    

半导体微影技术大厂艾司摩尔(ASML)公布2017第二季财报。ASML在第二季新增8台EUV系统订单,让EUV微影系统的未出货订单累积到27台,总值高达28亿欧元。预估2017第三季营收净额约为22亿欧元,毛利率约为43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现,ASML预估2017全年营收成长可达25%。

ASML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)指出:“ASML今年的主要营收贡献来自存储器芯片客户,尤其在DRAM市场需求的驱动下,这部分的营收预估将比去年成长50%,而来自逻辑芯片方面的营收也可望成长15%。在EUV微影系统部分,未出货订单累积金额在第二季已经累积到28亿欧元,显示不论逻辑芯片和DRAM客户,都积极准备将EUV导入芯片量产阶段。”此外,ASML近年来积极推行系统升级业务,该部分的营收贡献可望在今年成长20%,也认为成长动能将延续到2018年。

第二季产品重点摘要部份,在深紫外光(DUV)微影方面,推出最新浸润式微影系统TWINSCAN NXT:2000i,让客户得以在7纳米和5纳米制程节点上,同时用浸润式微影和EUV系统进行量产,并达到2.5纳米的叠对精度(on-product overlay)。另一方面,3D NAND客户对于KrF乾式微影系统的需求持续升高,目前TWINSCAN XT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCAN XT:860系统的生产力可达到每天曝光5,300片晶圆。

就全方位微影优化方案(Holistic Lithography)部份,本季开始出货最新的YieldStar 375F量测系统,具备最新的光学技术,可更快、更精准的获取量测结果。至于极紫外光(EUV)微影,在荷兰总部已经成功将升级的EUV光源整合进NXE:3400B系统中,并达成每小时输出125片晶圆的生产力指标。在第二季当中,ASML也完成了对德国卡尔蔡司(ZEISS)旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT)24.9%的股权收购,以进一步深化双方的策略伙伴关系,共同发展下一代EUV微影系统。

展望2017年第三季,ASML预估整体销售净额可达22亿欧元,毛利率约落在43%,其中包含约3亿欧元的EUV营收认列。研发投资金额提高到3.15亿欧元,其他收入部份(包括来自于客户共同投资计划的收入)约为2,400万欧元,而管销费用(SG&A)支出则约1.05亿欧元,年化税率约14%。ASML预计在第三季会有另外3台NXE:3400B EUV微影系统完成出货。

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