注册

EUV光刻机相关资讯

韩企开发石墨烯EUV光罩护膜,瞄准台积电/三星/英特尔等潜在客户

韩国媒体报导,一家韩国公司开发出一种新材料,有望显著提高荷兰半导体设备企业ASML的极紫外光微影曝光设备 (EUV) 的良率...

半导体设备 EUV光刻机 光罩厂

材料/设备

事关EUV光刻技术,中国厂商公布新专利

近日,据国家知识产权局官网消息,华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利,专利申请号为202110524685X...

华为 EUV光刻机 半导体技术

材料/设备

单台成本3亿-3.5亿欧元,ASML新High-NA EUV有望2024年出货

据外媒报道,荷兰半导体设备业龙头ASML计划在韩国投资建设的再制造工厂及培训中心于11月16日开工,ASML执行长Peter Wennink表示...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

总投资2500万美元,蔡司研发生产新基地项目在苏州工业园区启动

据苏州市人民政府外事办公室网站显示,近日,全球光学及光电技术领军者德国蔡司集团在苏州工业园区奠基启动“凤栖”工程建设。官方资料显示...

EUV光刻机

材料/设备

21年来首次!佳能扩产光刻机设备!

据日经新闻报道,佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量,将其在日本的半导体制造设备产量翻一番...

半导体设备 EUV光刻机 光刻胶

材料/设备

半导体设备高光时刻来临,景气度有望拉满第三年

2021年和2022年是全球半导体设备行业的高光时期。2021年高涨的设备需求由景气的下游市场和需求旺盛的中游晶圆制造共同支撑...

半导体设备 EUV光刻机 MOCVD设备

材料/设备

ASML首席技术官:明年交付首台High-NA EUV光刻机

据外媒Bits & Chips报道,ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前公司正有序推行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

放缓扩产进度?外媒:晶圆代工大厂将关闭部分EUV光刻机

外媒报导,先进制程产能利用率开始下滑,且评估下滑时间将持续一段时间,为节省EUV的巨大耗电,台积电计划年底开始,关机部分EUV光刻机设备...

台积电 芯片制造 EUV光刻机

制造/封测

张汝京二投光罩厂;光刻机企业回应市场需求

据TrendForce集邦咨询研究显示,第二季在物料供应改善,北美地区超大规模数据中心客户及企业客户对enterprise SSD需求大幅提升,加上铠侠...

SSD EUV光刻机 至讯创新

一周热点

123456......13>