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关键词:EUV光刻机

【材料/设备】科研成果作价入股 国望光学加快光刻机量产速度

8月14日,记者从经开区企业北京国望光学科技有限公司获悉,其增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资,国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与...

集成电路 EUV光刻机

材料/设备

【材料/设备】北京加快突破光刻机“卡脖子”难题

近日,亦庄企业北京国望光学科技有限公司增资项目在北京产权交易所完成。通过此次增资,国望光学引入中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国...

半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

【制造/封测】国产光刻机的现状究竟如何?

光刻机是半导体芯片制造业中的最核心设备。以光刻机为代表的高端半导体装备支撑着集成电路产业发展,芯片越做越小,集成的电路越来越多,能使终端变...

集成电路 芯片制造 EUV光刻机

制造/封测

【制造/封测】台积电3nm EUV工艺进展顺利,已有早期客户参与

尽管今年下半年才能见到7nm EUV工艺制造的芯片,但根据Anandtech的报道称,台积电的3nm EUV工艺发展顺利,而且已经有早期客户参与...

台积电 EUV光刻机

制造/封测

【材料/设备】ASML:Q2售出10台EUV 下半年7纳米以下制程投资强劲

Peter Wennink强调,逻辑芯片市场的需求主要来自于客户加速7纳米及以下先进制程节点的投资。而ASML在2019年第2季总计接获10台EUV极紫外光系统的订单...

艾司摩尔ASML EUV光刻机

材料/设备

【材料/设备】ASML开发新一代EUV设备 预计2025年量产

当前半导体制程微缩已经来到10纳米节点以下,EUV极紫外光光刻技术已成为不可或缺的设备,包括现在的7纳米制程,以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程...

艾司摩尔ASML EUV光刻机

材料/设备

【制造/封测】SK海力士及美光等DRAM厂评估采用EUV技术

继台积电、三星晶圆代工、英特尔等国际大厂在先进逻辑制程导入极紫外光(EUV)微影技术后,同样面临制程微缩难度不断增高的DRAM厂也开始评估采用EUV技术...

DRAM EUV光刻机

制造/封测

【制造/封测】新时代,“芯”动能!华虹无锡厂打破全球Fab建厂速度纪录

6日,位于无锡高新区的华虹无锡集成电路研发和制造基地(一期)建设项目迎来令人振奋的一刻:随着首批光刻机的搬入,华虹七厂顺利进入工艺设备安装调试阶段...

华虹集团 EUV光刻机

制造/封测

【材料/设备】半导体先进制程发展扩大EUV市场需求,ASML可望持续受惠

在先进制程纳米节点持续微缩下,光刻机是重要关键设备。12寸晶圆主要光刻机为ArF immersion机台,可覆盖45nm一路往下到7nm节点的使用范围,其雷射光...

艾司摩尔ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

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