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成功导入ASML光刻机,英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三

来源:全球半导体观察       

成功导入ASML光刻机,英诺赛科今年有望进入氮化镓厂商全球前三

12月8日,英诺赛科(珠海)科技有限公司为ASML光刻机成功导入8英寸硅基氮化镓量产线举办了庆典。事实上,早在今年年初,英诺赛科就和ASML达成了批量购买高产能i-line和KrF光刻机的协议,用于制造先进的硅基氮化镓功率器件。

英诺赛科首席执行官孙在亨介绍,英诺赛科于今年第二季度引进ASML光刻机,改善了光刻工艺窗口,进一步提高了产能和产线良率,随后在短短三个月内实现试生产,最终在10月进入正式量产阶段。

孙在亨表示,通过与半导体设备领跑者ASML的合作,加快了英诺赛科产品推向市场的速度,助力蓬勃发展的氮化镓半导体行业。

资料显示,英诺赛科科技有限公司成立于2015年12月,是一家致力于第三代半导体硅基氮化镓芯片制造的企业。公司成功建成投产全球首条200mm硅基氮化镓晶圆与功率器件量产生产线,主要产品包括200mm硅基氮化镓晶圆及30V-650V氮化镓功率器件。

受惠于高、低压GaN产品出货量大幅增长,英诺赛科快充产品首次进入一线笔电厂商供应链。与此同时,其苏州8英寸晶圆厂已步入量产阶段,IDM模式优势将在GaN产业高速发展中逐步显现。

根据TrendForce集邦咨询预测,2021年,英诺赛科的市占率将攀升至20%,跃升为全球第三。

据公众号“ASML阿斯麦光刻”介绍,这是一次重大突破,ASML光刻机首次进入8英寸硅基氮化镓量产线。ASML的顺利入驻将持续助力英诺赛科的大规模量产,为其长期发展保驾护航。

封面图片来源:拍信网