来源:自由时报
全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔 (ASML) 公布今年第一季财报,季营收19.4亿欧元,毛利率为47.6%,EUV极紫外光微影系统的未出货订单则已累积到21台,价值高达23亿欧元,预估第二季营收将落在19到20亿欧元之间,毛利率约为43到44%。
ASML总裁暨执行长温彼得 (Peter Wennink) 指出,“积极的产业环境为2017年提供了一个的强劲开始,我们预估这样健康的市场需求将持续今年一整年。我们看到客户对于DUV的强烈需求,有些客户选购效能升级方案以优化他们现有的浸润式机台,因此我们的服务和升级业务在第一季度的表现也非常好,预估这样的趋势将延续到第二季。”
温彼得也说明攸关先进制程设备销售进展,指出EUV极紫外光微影系统正进入量产阶段,订单持续涌入,目前的未出货订单已累积到21台。
三星去年年中传出购买EUV 机台设备,传出预计今年底量产7纳米;台积电7纳米制程已在第一季底试产与准备明年量产,此制程首度导入极紫外光微影技术,并为客户提供强化版的产品设计。
对于第一季产品销售情况,ASML表示,深紫外光 (DUV)微影持续出货,NXT:1980浸润式微影系统给存储器客户及逻辑芯片客户进行10纳米量产、7纳米制程开发,目前NXT:1980浸润式系统的累积装机量已提高达到60多台。
本季ASML和Cadence宣布合作,将ASML的微影和图样模拟(patterning simulation) 模型整合到Cadence的产品中,这将帮助芯片设计业者在设计阶段就能进行可生产性确认,以达到更好的效能并缩短上市时程。极紫外光(EUV)微影已在第一季末到第二季初间完成第一台NXE:3400B系统的出货。
展望第二季,ASML预估整体销售净额可达19到20亿欧元,毛利率约落在43到44%,其中包含约2亿欧元的EUV营收。研发投资金额提高到3.15亿欧元,其他收入部份 (包括来自于客户共同投资计划的收入)约为2,400万欧元,管销费用支出则约1亿欧元,年化税率约13~14%。ASML预估在第二季会有另外3台NXE:3400B EUV微影系统完成出货。