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【材料/设备】与邓海博士分道扬镳后 上海新阳组建新团队继续推进193光刻胶项目

来源:全球半导体观察    原作者:张明花    

本月初,上海新阳宣布与邓海博士解除193nm光刻胶项目合作,业界对其该项目的后续发展颇为关注,日前上海新阳在调研活动中回应了相关问题。

2018年3月,上海新阳发布公告称,拟与合作方上海逸纳材料科技有限责任公司(以下简称“上海逸纳”)共同投资设立子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司(以下简称“上海芯刻微”),开展193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目,计划总投资2亿元人民币。

合资公司上海芯刻微股权结构方面,上海新阳在持股80%,上海逸纳持股20%。全球最早涉足193nm光刻胶技术人员之一邓海博士是上海逸纳的法定代表人,为上海新阳193nm光刻胶项目负责人,其率领技术团队负责光刻胶产品的研发及生产。

然而,两者间的合作关系仅维持了一年多。5月10日,上海新阳发布公告称,经公司与合作方充分沟通并达成一致,拟以0元受让合作方上海逸纳持有的上海芯刻微公司20%股权, 并解除双方签订的《193光刻胶项目合作开发协议》及基于“开发协议”达成的一切合作。

5月28日,上海新阳接受了二十多家机构调研,其在会上表示,193光刻胶项目目前处于实验室研发阶段。2018年公司与邓海博士合作设立上海芯刻微进行193ArF光刻胶项目的开发,因合作未达到预期,公司与邓海博士解除合作,但公司还在按计划推进该项目,同时也在着手开发i线、KrF光刻胶及其配套材料。

被问及如何解决光刻胶项目开发过程中的光刻机、人才、原材料等问题,上海新阳透露称,公司目前已引进了曾经任职日本知名光刻胶公司的专业从事光刻胶开发的高端技术人才,组建完成新的研发团队。

此外,上海新阳还表示目前已购置了一台ASML1400型二手光刻机,用于光刻胶的研发,这台光刻机可覆盖到55nm技术节点,后续也会配置相关研发设备。光刻胶开发所用到原材料如光敏剂、感光树脂等公司也会同步研发,掌握其核心技术。

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图片声明:封面图片来源于正版图片库,拍信网。

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