来源:全球半导体观察
据韩国媒体The Elec引述消息人士报道称,SK海力士本月因材料问题导致部分DRAM生产设备为了检查暂停运作,但对生产没有任何影响。
报道称,由于材料供应商SK Trichem提供的含锆(Zirconium)的High-K材料掺有杂质,导致SK海力士DRAM工厂的部分生产设备一度暂停运作。
对此,SK海力士表示,已立即清洁工厂产线,因此产量没有受到影响。同时,SK海力士正在对这起事件进行调查。
SK Trichem指出,这起事件的主因是High-K材料的纯度不足,导致部分设备承受的压力增加,进而被迫暂停运作。
据悉,High-K材料是制造半导体用的高纯度前驱物,以原子级的厚度沉积在DRAM电容上。电容是DRAM的重要组成部分,可以决定DRAM的效能,因此High-K材料的品质至关重要。
根据报道,在问题未完全解决之前,SK海力士将暂停向SK Trichem采购材料,在此期间,SK海力士将向UP Chemical和M Chemical采购High-K材料。
SK Trichem回应称,预计在本月底前完成品质改善,向SK海力士恢复正常供货。
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