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【材料/设备】国产新突破,北方华创ICP刻蚀机1000腔顺利交付

来源:全球半导体观察    原作者:全球半导体观察    

近期,国产刻蚀机取得新的突破。北方华创近日宣布,公司ICP刻蚀机1000腔已经顺利交付。

北方华创自2001年成立后便开始组建团队研发刻蚀技术,并于2004年第一台设备成功起辉,2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线,并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。

目前,北方华创的刻蚀设备已覆盖集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS、化合物半导体、硅基微显等多个领域。

其中,12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代的同时,在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中也发挥着重要作用。

北方华创表示,lCP刻蚀机交付突破1000腔,不仅是公司发展征程中的重要里程碑,更是国产刻蚀机在历经了二十载自主创新,得到客户广泛认可的重要标志。

封面图片来源:拍信网