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【材料/设备】东京电子将向ASML提供面向新一代EUV的设备

来源:全球半导体观察整理       

根据日经中文网的消息,东京电子6月8日发布消息称,将向ASML和IMEC联合运营的实验室提供新一代设备,该设备将和ASML生产的EUV光刻设备进行组合,这是东京电子首次向上述实验室提供设备。

该实验室在缩小半导体电路线宽的微细化技术研发(R&D)方面具备世界顶尖水平。东京电子希望通过与该实验室的合作,涉足最尖端半导体的研发,提升竞争优势性。

在共同研究方面,将把ASML的新一代EUV光刻设备和东京电子的涂布显影设备组合为一体,提高半导体的生产效率。东京电子最早将于2022年上半年提供自己的设备,组合起来的设备则计划最快于2023年投入使用。

近期,ASML也是大动作不断,此前就有消息,ASML计划在韩国建设光刻设备再制造工厂及培训中心,主要用途是为韩国当地运行的EUV光刻机的维护和升级提供助力,新厂预计在2025年建设完成,投资2400亿韩元(约合13.7亿人民币)。

近期,又有消息称,ASML将于今年开始为光刻机提供新型EUV防护膜,透光率可达90.6%,目前即将开始生产。

在营收方面,根据ASML发布的Q1季度财报,其在当季营收43.64亿欧元,同比增79%,上年同期为24.41亿欧元;净利润为13.31亿欧元,同比增240%,上年同期为3.91亿欧元。