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近日,国内高端半导体设备龙头中微半导体设备(上海)股份有限公司华中总部敲定落户东湖高新区光谷片区,整套研发基地规划将于次年年初正式投入运营。
项目运营主体中微半导体设备(武汉)有限公司,已于7月28日完成全部工商注册手续,企业注册资本5000万元,由中微公司全资控股,办公选址落地光谷存算双创园之内。
该华中总部定位专属研发中心,主攻刻蚀、薄膜沉积、外延设备三类核心半导体装备的技术迭代与本地化适配工作,面向武汉本地以及整个华中区域内晶圆制造、化合物半导体厂商提供设备技术对接、后期运维等配套服务。按照人才引进规划,基地在岗人员规模预计达到300人,其中专职研发人员占比100人,强化华中地区半导体设备的科研落地实力。
作为国内刻蚀设备龙头厂商,中微公司现已落地上海临港、金桥、南昌、成都、广州五大研发生产基地,刻蚀设备工艺覆盖65纳米直至3纳米先进制程,设备精度可达原子‑加工水准,设备出货台套已经落地海内外二百多条芯片产线。此番布局武汉属于企业全国化基地布局的关键一环,此前广州增城华南总部一期建筑刚刚封顶,成都西南总部处在开工建设阶段。