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光刻机相关资讯

ASML：向下一代光刻机转变的成本高昂

2025-03-07

客户将面临诸多重大抉择...

事关光刻机！美国开发新光源：效率有望提升10倍

2025-01-10

据外媒报导，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（Lawrence Livermore National Laboratory，LLNL）正在研发铥元素的拍瓦...

半导体设备光刻机

大族安莱微米级光刻机项目开工

2024-12-30

据“微吉州”消息，12月26日，大族安莱（吉安）半导体科技有限公司微米级光刻机项目开工活动举行....

半导体设备光刻机

ASML推出High-NA EUV乐高模型

2024-12-03

ASML 的 High-NA EUV 光刻机将提供 0.55 数值孔径的投影光学器件...

半导体设备，烽烟四起

2024-11-29

今年来，多个国家开始加大对半导体设备产业的布局。市场来看，上游半导体设备竞争日趋热烈，中国、俄罗斯近期均传来声音....

半导体设备 MOCVD设备光刻机

又一台天价光刻机，即将出货！

2024-11-01

据韩媒最新报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV（极紫外）光刻机设备，这或许标志着这家三星电子在先进半...

三星 ASML 光刻机

ASML：High NA EUV组装速度加快，英特尔已完成2套组装

2024-10-10

High NA EUV光刻机将不太可能像当前标准EUV光刻机那样出现延迟交货的情况，其原因是ASML找到了组装扫描器组件的新方法，就是直接在客户工厂安装...

ASML 半导体设备光刻机

佳能交付首台新型纳米压印光刻机

2024-09-29

佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）

英特尔将在日本建设尖端芯片研究中心

2024-09-04

据悉，英特尔和日本国家研究机构将在日本建立一个尖端半导体制造技术研发中心，以促进该国芯片制造设备和材料行业的发展，而日本在这些领...

芯片设计英特尔光刻机

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