2024-07-02
近日,据朝鲜日报报道,阿斯麦(ASML)将针对1纳米以下制程,计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机设备,但可能超...
2024-06-18
据EETimes报导,ASML已公布下代机台Hyper-NA EUV蓝图,目前为开发早期阶段。ASML前技术长Martin van den Brink 5月在....
2024-06-11
6月19日(周三),TrendForce集邦咨询将在深圳举办“2024集邦咨询半导体产业高层论坛(TrendForce Semiconductor Seminar 2024)”.....
2024-05-11
4月上旬,全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E,该工具投影透镜拥有0.33的....
2024-04-24
4月22日消息,据媒体报道,阿斯麦(ASML)正在考虑在荷兰埃因霍温市进行大规模扩张。该公司与荷兰埃因霍温(Eindhoven )政府签署了一...