2017台半导体厂同步加大投资力度

来源：联合新闻网原作者：简永祥 2017-06-12 08:30:10

半导体厂台积电依旧是带领业界扩大投资的指标企业；DRAM大厂南亚科也因制程推进至20纳米，今年资本支出仍居台湾地区半导体厂第二位；力成则因应收购美光日本厂和子公司，同步加大投资力度。

台积电预估，今年资本支出约100亿美元，持续用于研发先进制程和扩充产能，以及增加第二次后段整合型扇型封装（InFO）等先进封测投资。

南亚科也因应新建12寸晶圆厂，并将制程推进至20纳米，为达成20纳米量产的目标，决定将20纳米的资本支出预算从新台币359亿元调高至557.4亿元。

由于部分金额已于2016年动用，2017年资本支出预估为新台币343亿元，规划总产能也由每月6万片提升到6.8万片。其中在20纳米部分，将由预计的3万片提高至3. 8万片。

南亚科的20纳米已在今年1月试产，第3季将有小量产出，今年底前规划月产3万片全数投片，明年挹注营收，明年上半年单月产能再推升至3.8万片的数量。

力成除因应主力客户东芝和美光在NAND Flash和DRAM产出增加，扩大两大存储器封测产能外，更与美光达成协议，分别以公开收购方式取得美光所持有日本上市公司Tera Probe的39.6%股权，以及收购美光位于日本秋田封测厂Micron Akita（美光秋田）100%股权。

力成估计，今年在各项布局下，全年资本支出再拉升近新台币百亿元，收购美光日本封测厂及承接美光日本转投资，主因切入日本车用、物联网市场，并强化和美光的合作关系。

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