EN CN TW
注册

【半导体/IC】艾司摩尔第16次登半导体微影设备龙头 预计今年产量扩大到24台

来源:TechNews科技新报    原作者:Atkinson    

研究资料显示,2017年全球半导体光刻设备,荷兰厂商艾司摩尔(ASML)仍以85%的市占率稳居龙头,其次是日本厂商尼康(Nikon)的10.3%,以及佳能(Canon)的4.3%。这样的市占率表现让ASML连续16年稳居市场第一的宝座。

报告中显示,ASML之所以能够几乎以垄断的地位占据半导体微影设备的市场,原因是ASML是目前唯一一家能提供极紫外光(EUV)微影设备的公司。这在目前半导体的晶圆代工领域,成为极其重要的关键设备。现阶段全球的晶圆代工大厂三星、台积电、格罗方德等公司都将在7纳米的制程中导入这项每部加值超过1亿欧元的设备。因为藉由极紫外光微影设备的作业,可以降低原本采用深紫外光(DUV)的多模式制程步骤,并且减少沉积,因此成为各晶圆代工大厂进入先进制程不可或缺的关键。

不过,在2017年,EUV光刻机的年产量只有12台,几乎每个月只生产出一台,呈现供不应求。目前ASML的客户有8个之多,其中就包括台积电、三星和英特尔。这些半导体大厂们为了快速快速下一代新的制程,他们甚至还出钱帮助ASML加快研发EUV研发进度。

只是,多年来EUV的商业化之路依旧走得艰辛。因为,在光照亮度的提升始终未能达到客户的预期,而且采用EUV技术的成本也高得吓人的情况下,EUV技术的进展一直很缓慢。过去,摩尔定律始终控制着半导体制程的发展,如今这些半导体大厂期望透过押注EUV的发展,进一步改变摩尔定律极限的问题。

据了解,ASML目前在EUV光刻机累积的订单已经达到27台,是目前年产量的两倍多。也就是说,ASML在2018年之前的产能已经全部都被订光。所以,ASML目前也在采取措施,确保提高生产力能跟上需求。

据了解,ASML计划在2018年将光刻机的年产量逐步扩大到24台,而到2019年将达到40台的年产量。而这样的扩产计划,进一步拉抬了ASML的股价。根据统计,ASML的股价在过去一年内涨了30%,目前公司市值约为530亿欧元。

如需获取更多资讯,请关注全球半导体观察官网(www.dramx.com)或搜索微信公众账号(全球半导体观察)