注册

【存储器】中国台湾地区半导体产业强化布局EUV技术,引发韩国三星警戒

来源:科技新报       

相较韩国半导体产业最早开始采用EUV光刻技术,相关产业存储器与晶圆代工时程相对落后。但韩国媒体《Business Korea》报导,近期中国台湾地区半导体企业加紧投资EUV光刻技术,进一步扩大竞争优势。

目前投资中国台湾地区最大外商的美商存储器大厂美光科技,除决定今年底美国总部安装ASML最新曝光设备NXE:3600D,美光还计划在台中DRAM工厂安装相同EUV光刻设备。代表美光科技将在中国台湾地区生产第一颗EUV技术DRAM,并持续增加投资。

除了美光科技积极部署EUV光刻技术,全球DRAM产业排名第四大的南亚科技也于4月宣布,投资3000亿元新台币在新北市兴建含EUV光刻设备的DRAM产线,预计2024年量产营运。

晶圆代工龙头台积电的EUV光刻设备产业影响力也有增加。今年第二季起,采用EUV光刻设备的7纳米及更先进制程技术占公司总营收49%,正从曝光设备厂商ASML采购更多EUV光刻设备,增加研发投入。包括台积电自行生产EUV光罩,以提升良率和制程效率。

韩国三星是全球首家采用EUV光刻技术的半导体企业,并在2019年首次量产,如今大规模发展EUV技术的还加上美光科技、台积电等中国台湾地区半导体企业。韩国市场专家指出,基础设施持续扩张,预计为中国台湾地区半导体产业带来更强大的竞争优势。

封面图片来源:拍信网