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开始1-γ芯片制程开发?美光日本厂拟引入ASML光刻机

来源:全球半导体观察整理       

知情人士称,美国美光科技公司准备在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV(极紫外光刻机),以制造下一代存储芯片(DRAM)。而其也将获得日本政府提供的约2000亿日元(15亿美元)的补贴。

日本经济产业大臣西村康稔之后证实了美光在日的进一步投资。他指出,日本政府正与台积电讨论扩大在日投资的可能性,美光也有意在广岛开始大规模生产先进存储芯片。

今日(周四),日本首相岸田文雄会见了美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团,而有关芯片的详细计划可能在之后陆续宣布。

自2013年以来,美光已经在日本投资超过130亿美元,其中包括去年宣布的1-β存储芯片。而最新的投资将帮助美光在日本生产所谓的1-γ芯片,这是美光计划在2024年底推出的更先进技术。

封面图片来源:拍信网