消息称三星重启SF1.4工艺商业化，提前启动设备研发

据台湾电子时报援引产业消息，三星电子晶圆代工业务已经重新启动1.4纳米制程（SF1.4）的商业化开发工作，并且已经向上下游合作设备厂商下达安排，要求合作伙伴提前启动对应制程专用设备的研发工作，为后续工艺研发与试产做好配套准备。

资料显示，三星此前一度放缓了1.4纳米节点的推进节奏，把研发资源集中投向2纳米GAA工艺的良率优化。随着现阶段2纳米产线逐步趋于稳定，三星再度将SF1.4先进制程提上议程，并且更新了整体技术路线，同步向上游设备厂商同步最新的工艺指标，协调蚀刻、沉积、量测、光刻等关键设备的定制开发进度。

按照最新规划，该1.4纳米工艺将采用新一代高NA EUV光刻机完成关键层图形化制造，整套产线将落地在三星NRD-K先进半导体研发园区。本次启动设备预研，意味着三星正式敲定下一世代先进节点的开发时间表，供应链配套工作正式进入前置筹备阶段。设备厂商需要根据三星的工艺参数调整硬件结构、优化工艺配方，保障未来能够匹配精细GAA晶体管、多层金属互连的生产要求。

在全球先进制程竞赛中，台积电、英特尔均已发布自家1.4纳米等级工艺的量产规划。三星重启SF1.4项目，意在守住高端逻辑芯片代工席位，抓住AI大算力芯片长期增长带来的先进制程订单需求。本次仅为前期设备研发启动，三星尚未对外公布SF1.4正式风险试产与大规模量产的具体时间节点，后续产线建设、客户流片计划仍待官方披露。

目前该消息仅来自产业供应链信息，三星官方暂未就1.4纳米工艺的最新路线图发布正式公告。