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【材料/设备】控制半导体制程上污染,英特格确定与三大半导体厂合作

来源:TechNews科技新报    原作者:Atkinson    

在当前包含物联网、工业自动化、人工智能、自动驾驶、5G通讯等新科技逐渐普及的情况下,带动了半导体的成长,并使得芯片需求大幅提升。而为了迎接这些挑战,导入新的材料增加效能,在延续摩尔定律过程中,材料技术不断演进,且应用的材料本质也开始改变。而特用化学原料暨先进科技材料龙头供应商英特格(Entegris Inc.)即透过运用科学为基础,以提供解决方案,并协助半导体客户在先进制程上应对各种挑战。

英特格技术长James O’Neill指出,英特格成立迄今已经有50年历史,去年整体营收达16亿美元。而在当前新的材料、芯片、形状都与过去不同,对于半导体制程来说都是很复杂的挑战。

举例来说,从28纳米转换到7纳米,复杂程度是过去的两倍。技术要验证得要更快,所以整个生产周期时间都是更短的。这也表示我们在采用先进制程时,要达成较佳的良率更为困难,产业的重点就在于如何快速达到好的良率。这也就是英特格的优势所在。

James O’Neill表示,要提高良率重点之一是污染控制,从28纳米到7纳米,对于金属杂质容忍程度已经减少1,000倍,而晶圆致命微粒则缩小将近4倍,这点非常重要,因为只要杂质或微粒等污染的容忍程度有了细微变动,对晶圆厂获利都会造成很大的影响。整个半导体生态系中,每个步骤都要顾虑污染控制,包括工厂中怎么制作和包装化学品、如何运送与在工厂中使用与储存,每个步骤都相当重要。英特格有各项产品和解决方案,确保整个制程、输送时不受污染。

James O’Neill进一步强调,因为蚀刻技术的大幅进步,现在半导体厂开始导入的是极紫外光EUV设备及技术。而英特格在EUV制程的污染控制与光罩盒是市场领导者,旗下的过滤技术能确保材料放在pattern上维持洁净度。此外,

半导体制程中,运用EUV的光蚀刻技术可再进一步细分成好几个步骤,这使得英特格不仅提供光罩盒,还有特殊化学品、过滤器、过滤技术,以及制程中各方面需要的材料和污染控制,惟有英特格能够提供最广泛的解决方案。

James O’Neill也证实,因为目前全球半导体厂仅有3家晶圆代工厂,包括台积电、三星及英特尔有能力持续推进先前制程,尤其龙头台积电预计2020年将开始量产6纳米,以及更加先进的5纳米制成,带动中国台湾未来的导体业乐观前景。而因此,英特格确定与这3家厂商进行合作,持续提供相关解决方案给客户,以满足在先进制程上的需求。

图片声明:封面图片来源于正版图片库:拍信网

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