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【材料/设备】南大光电披露光刻胶项目最新进展

来源:全球半导体观察       

近日,江苏南大光电材料股份有限公司(以下简称“南大光电”)在股票交易异常波动的公告中披露了其光刻胶项目最新进展。

公告显示,南大光电承接的国家“02专项”之“ArF光刻胶产品的开发和产业化项目”的基础建设按计划进行;2019年底完成一条生产线的安装,正在调试阶段。2020年4月,公司采购的用于检测ArF(193nm)光刻胶产品性能的光刻机运入宁波南大光电工厂,5月开始进行安装调试,预计安装调试需要4-5个月的时间。公司制备ArF(193nm)光刻胶用的高纯原材料来源于自主研发,研制出的ArF(193nm)光刻胶样品正在供客户测试。

目前“ArF光刻胶开发和产业化项目”正处于光刻胶样品验证阶段,验证过程预计需要12-18个月,甚至更长的时间。南大光电还指出,ArF(193nm)光刻胶产品开发技术突破难度大、工艺要求高,且实现稳定量产周期较长,后续是否能取得下游客户的订单,能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。

据了解,南大光电ArF光刻胶产品的开发和产业化项目总投资额为6.56亿元,其中,国拨资金1.93亿元,地方配套资金1.97亿元,项目实施主体为南大光电全资子公司宁波南大光电。

2019年12月14日,南大光电再次发布公告称,通过增资扩股的方式宁波南大光电进行增资2.6亿元,增资事项完成后,宁波南大光电的注册资本由4000万元增加到3亿元。对于宁波南大光电增资扩股并引入外部投资者,南大光电称,有利于加快公司ArF光刻胶产品的开发与产业化项目的建设进度,推动光刻胶板块的战略布局。

根据最初规划,ArF光刻胶产品的开发和产业化项目拟通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品满足集成电路行业需求标准。同时建成先进光刻胶分析测试中心和高分辨率光刻胶研发中心。

封面图片来源:拍信网