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【材料/设备】ASML全新EUV光刻机将于2021年发货,生产效率提升18%

来源:全球半导体观察       

ASML近日官宣,最新规格EUV光刻机拟明年中期发货。

据《科创板日报》消息,ASML公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格,这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产率,并改进机器匹配套准精度至1.1纳米,并计划于2021年的中期开始发货。

在DUV光刻业务领域,ASML在本季度对第一台TWINSCAN NXT:2050i进行了质量认证,并于第四季度初发货。NXT:2050i基于NXT平台的新版本,其中包括掩模版工作台,晶圆工作台,投影物镜和曝光激光器的技术改进。该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制,并具有更高的生产率,而且,NXT:2050i 将立即进入批量生产。

ASML是全球光刻机行业龙头,市占率超过60%,在DUV浸入式光刻机市场占据了最大的份额,并垄断了顶级的EUV光刻机市场。

封面图片来源:拍信网