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【材料/设备】首只国产ArF光刻胶通过验证!

来源:全球半导体观察    原作者:全球半导体观察    

12月17日,南大光电公告,公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。

“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。该项目总投资6亿元,完全达产后,预计实现约10亿元的年销售额,年利税预计约2亿元。

按不同制程,半导体用光刻胶可分为EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶及G线、i线光刻胶,前三者均为高端光刻胶产品。本次产品的认证通过,标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造。

全球半导体光刻胶市场集中度高,市场被美日公司长期垄断,日本的JSR、东京应化、信越化学及富士电子四家企业占据了全球70%以上的市场份额。受益于本土半导体产能持续扩大和集成电路大基金的支持,国产光刻胶正在迎来前所未有的发展机遇。

封面图片来源:拍信网