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【材料/设备】ASML完成第100台EUV光刻机出货

来源:全球半导体观察    原作者:全球半导体观察    

最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。

7纳米及更先进制程,必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中,台积电和三星均已引入光刻机。目前,台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段,台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为麒麟9000等,后者则包括Exynos 1080、骁龙888等。

据日经中文网报道,在半导体制造领域将电路转印到基板的设备市场上,尼康、佳能和荷兰ASML这三家企业形成垄断,但支持EUV技术的设备目前只有ASML成功实现商用化。

ASML表示,迭代到5nm后,EUV的层数达到了10~14层,包括但不限于触点、过孔以及关键金属层等过程。未来的3nm、2nm,对EUV的依赖将更甚。

另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻机TWINSCAN NXE:3600D,生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm,单台价格或高于老款的1.2亿欧元(约合9.5亿元人民币)。

封面图片来源:ASML