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【材料/设备】上海新阳:ASML干法光刻机设备顺利交付

来源:全球半导体观察       

3月8日,上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。

公告显示,公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备,并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露,该光刻机将于2020年底前运抵国内。

后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司(以下简称“合作方”)沟通协调设备运输与安装等细节,致使设备没能在规定时间内运达,但与合作方就具体合作细节签署了《合作框架协议》,预计该光刻机将于2021年3月底前进入合作方现场。

现经各方积极协商、运作,该光刻机设备于今日(3月8日)已进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场地,后续将进行安装调试等相关工作。

上海新阳表示,公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付,对加快193nmArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响,有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争 力,加快落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。 

该光刻机尚须经过装机、调试等相关环节,若相关环节出现工作疏漏或 失误则存在造成所购买的光刻机投入使用的过程较长甚至无法投入使用的风险。

光刻胶研发项目技术壁垒高、周期长、至产业化并最终实现销售利润仍需一定时间,而公司购买的光刻机设备价格昂贵,其折旧及后续维护费用预计对公司的经营业绩存在一定影响。

封面图片来源:拍信网