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【材料/设备】南大光电:已建成2条ArF光刻胶生产线,ASML光刻机已投入使用

来源:全球半导体观察整理       

近日,南大光电在业绩说明会上表示,公司已建成2条ArF光刻胶生产线。ArF光刻胶产品开发和产业化项目,目前已完成25吨光刻胶生产线建设,主要先进光刻设备,如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。

南大光电进一步表示,2020年底,公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证,成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,各项光学性能均达到商用胶的水平,可实现先进光刻胶的国产替代,产业化取得关键突破,拿到国产光刻胶的首个订单,实现小批量销售。 

据悉,目前南大光电的光刻胶产品正在继续发往多个下游客户进行验证工作,验证进展顺利。从目前测试结果看,ArF光刻胶性能上和日本产品达到同等水平,并实现了ArF光刻胶国产化和本土化,打破了被国外长期垄断的被动局面,测试中的ArF光刻胶可以用于逻辑芯片和存储芯片。

南大光电表示,公司研发并产业化的ArF光刻胶是国内最先进的光刻胶,光刻胶项目今年的主要任务是完成主要客户认证,明年启动量产,力争尽早实现盈利。

封面图片来源:拍信网