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【材料/设备】华特气体四款光刻气产品通过日本GIGAPHOTON株式会社认证

来源:全球半导体观察整理       

10月8日,华特气体发布公告称,公司四款光刻气产品(Ar/Ne/Xe、Kr/Ne、F2/Kr/Ne、F2/Ar/Ne)均通过了日本GIGAPHOTON株式会社的合格供应商认证。

图片来源:华特气体公告截图

据介绍,日本GIGAPHOTON株式会社创立于2000年,是半导体光刻用准分子激光机、其他用途准分子激光机以及极紫外光刻(EUV)的开发商和制造商,也是次世代光刻光源的极端远紫外光源(EUV)的开发者并实现量产。近年来,日本GIGAPHOTON株式会社不仅在包含日本的亚洲市场获得几近全数半导体业者的青睐,欧美市场也在快速增长。

华特气体在公告中表示,日本GIGAPHOTON株式会社对公司四款光刻气产品(Ar/Ne/Xe、Kr/Ne、 F2/Kr/Ne、F2/Ar/Ne)的认证是对公司该系列产品质量及在光刻气生产领域的生产能力的认可,有利于提高公司在光刻气领域内的认可度和知名度,对于公司境内外销售光刻气产品都具有积极意义,公司目前是国内唯一一家同时通过荷兰ASML公司和日本 GIGAPHOTON株式会社认证的气体公司。

不过,公告亦作出风险提示,公司本次获得日本GIGAPHOTON株式会社合格供应商认证函体现光刻机激光设备厂商对公司产品的认可。考虑到激光设备厂商本身不直接采购光刻气 体,光刻气产品销售均须经下游制造商认证,且需一定的认证周期。本次认证事项不会对公司的光刻气产品销售产生直接影响。

封面图片来源:拍信网