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【材料/设备】上海新阳:1400光刻机安装调试基本完毕

来源:全球半导体观察整理       

4月12日,上海新阳在投资者互动平台表示,公司与中芯北方搭建的1400光刻机安装调试基本完毕。

另外,上海新阳表示,公司研发费用投入超2亿元,且主要系光刻胶项目研发和参与的国家重大科技项目研发费用。其称,公司半导体产品销售收入不断增长,都是公司长期以来关心关注研发和项目推进取得的回报。

资料显示,上海新阳目前主要从事两类业务:一类是集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务,并为客户提供整体化解决方案;另一类是环保型、功能性涂料的研发、生产及相关服务业务,并为客户提供专业的整体涂装业务解决方案。其主要产品是半导体晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂、半导体晶圆制造用清洗剂、半导体封装用电子化学材料、半导体制造用高端光刻胶产品、半导体配套设备产品。

上海新阳迄今承担国家02专项研发项目有:“65-45nm芯片铜互连超高纯电镀液及添加剂研发和产业化”、“20-14nm先导产品工艺开发”项目任务课题“高速自动电镀线研发与产业”项目、“铜互连电镀工艺技术及产品的研发”等。

封面图片来源:拍信网