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国产厂商引入首台光刻机设备!

来源:全球半导体观察整理       

据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息,近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,引入首台电子束掩模版光刻机。据悉,该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的重点设备。

光掩模版是集成电路制造过程中光刻工艺所使用的关键部件,类似于相机“底片”,光线经过掩膜版后,可在晶圆表面曝光形成电路图形。目前,我国高精度半导体光掩模版产品主要仍依赖于进口,国产化率极低。

据了解,冠石半导体主要从事45nm~28nm半导体光掩模版的规模化生产。当前,冠石半导体一期洁净车间设计产能为月产5000片180nm~28nm集成电路掩模版。据冠石相关负责人介绍,企业正加速推进海外布局战略,并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下,预计今年底,企业将陆续实现为国内外中高端集成电路掩模版提供制版服务。

此次引入电子束掩模版光刻机,冠石半导体将成为国内技术能力先进的独立光掩模版生产企业,可填补国内高阶制程光掩模空白,打破国外高端光掩模版的垄断局面,提高我国半导体光掩模产业的安全和可控性。

公开媒体此前报道,南京冠石科技股份有限公司于2023年5月16日与宁波前湾新区管理委员会签署《投资协议书》,投资建设半导体光掩膜版制造项目。该项目实施主体为宁波冠石半导体有限公司,项目总投资约20亿元,先期投资16亿元,拟用地约68.8亩,建设周期计划为60个月,主要生产45nm~28nm成熟制程的半导体光掩膜版。

封面图片来源:拍信网