来源:全球半导体观察
当地时间4月30日,欧洲首个尖端半导体工厂在英国南安普顿大学投入运营。
该工厂将采用尖端电子束技术制造下一代半导体。据介绍,该新型电子束光刻设备是欧洲首台、全球第二台。
电子束光刻(Electron Beam Lithography, EBL)是一种基于电子束直写或投影的纳米级图形加工技术,其核心优势在于突破光学衍射极限,可实现亚10纳米级精度。电子束光刻技术使用聚焦的电子束在材料中创建具有无与伦比分辨率的图案,从而使研究人员能够创建比人类头发小数千倍的特征。
据了解,电子束光刻技术具备极其优秀的分辨率,可实现远超传统光刻的精度,也无需经过掩膜直写,对研发、小批量生产、原型设计有优势。与目前主流采用激光进行图案化处理的技术不同,电子束光刻是一种利用高能电子对光刻胶进行曝光的技术,通过高能电子与物质相互作用,直接激发光刻胶化学反应,从而刻画出半导体电路结构。
电子束光刻在先进半导体制造中有着重要应用,特别是在需要高精度图形的场合。例如,它可以用于制作光学掩模版、微纳加工等领域。此外,电子束光刻也在科研和教育中有着广泛应用,用于教学和研究中的高精度图形制作。
英国科学大臣Patrick Vallance表示,南安普敦的新电子束设施将极大地提升该国的半导体领域相关能力。