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【IC设计】ASML明年将出货30台EUV光刻机 新一代设备产能提升24%

来源:超能网       

台积电前不久试产了7nm EUV工艺,预计明年大规模量产,三星今天宣布量产7nm EUV工艺,这意味着EUV工艺就要正式商业化了,而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。ASML公司日前发布2018年Q3季度财报,当季营收27.8亿欧元,净利润6.8亿欧元,出货了5台EUV光刻机,全年预计出货18台,明年将增长到30台,而且明年下半年会推出新一代的NXE:3400C型光刻机,生产能力从现在的每小时125晶圆提升到155片晶圆以上,意味着产能提升24%。

根据ASML公司的Q3季度财报,ASML的设备销售营收20.81亿欧元,安装管理服务等业务营收6.95亿欧元,当季营收27.76亿欧元,同比增长13.4%,环比增长1%,不过毛利率达到了48.1%,同比增加5.2个百分点,环比也增加了4.8个百分点。

Q3季度的光刻机销售中,韩国公司占比33%,台湾公司占比30%,大陆公司占比18%,前一个季度中大陆公司占比是19%,不过Q3季度中台湾公司占比从18%增长到了30%,韩国公司占比从35%降至33%。

在单机过亿欧元的EUV光刻机方面,Q3季度ASML出货了5台EUV光刻机,上个季度出货7台EUV光刻机,预计Q4季度出货6台EUV光刻机,全年出货的数量将达到18台,而2019年EUV光刻机预计出货数量达到30台。

ASML明年将出货30台EUV光刻机,新一代EUV光刻机产能提升24%

明年除了EUV光刻机数量大涨之外,ASML公司明年下半年还将推出进一步改进的NXE:3400C光刻机,WPH(每小时处理的晶圆数量)产能将提升到155片,而现在的NXE:3400B型EUV光刻机的产能在合作伙伴的工厂中已经实现了125 WPH的产能,NXE:3400C的产能预计再提升24%,这对改善EUV工艺的产能很有帮助。

不过EUV光刻工艺今年正式量产只是一个开始,EUV光刻工艺目前离成熟还早呢,155 WPH的产能可喜可贺,但是现在的沉浸式光刻机的产能可达250 WPH,而且能以250W的光源长时间稳定运行,这些都是EUV光刻机暂时做不到的。

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