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【材料/设备】中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付

来源:全球半导体观察整理       

中微公司官微消息显示,6月9日,中微公司在上海总部举办电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付客户庆祝仪式。

据介绍,Primo nanova®是中微公司于2018年正式发布的第一代电感耦合等离子体刻蚀设备。该设备采用了中微公司具有自主知识产权的电感耦合等离子体刻蚀技术,目前该产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线,在领先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的生产线上实现大规模量产。

中微公司称,第100腔Primo nanova®刻蚀设备的顺利交付,是公司ICP刻蚀产品业务发展新的里程碑,标志着产品发展迈入新的阶段。

封面图片来源:拍信网