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【材料/设备】上海新阳:KrF(248nm)厚膜光刻胶通过客户认证并取得第一笔订单

来源:全球半导体观察整理       

6月30日,上海新阳发布公告称,公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证,并成功取得第一笔订单。

公告指出,KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一,本次产品认证的通过及订单的取得,标志着“KrF(248nm) 厚膜光刻胶产品的开发和产业化”取得了成功,为公司在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。

上海新阳在公告中表示,光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。随着国内晶圆厂建设的不断增多,以及国外光刻胶巨头产能受限,供需紧张,国内对光刻胶产品的需求也将快速增长,公司光刻胶产品的订单取得意义重大,将对公司该类产品的认证及销售产生积极的作用,有利于公司业务的长期发展。

封面图片来源:拍信网