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【材料/设备】三星与韩国厂商东进半导体合作开发成功EUV光刻胶

来源:全球半导体观察整理       

韩国光刻胶供应商东进半导体(Dongjin Semichem)12月19日宣布,近期已通过了三星电子的EUV PR(光刻胶)可靠性测试(合格)。三星方表示,这款光刻胶为双方合作研发,它打破韩国EUV光刻胶完全依赖海外供应商的局面,最快有望明年上半年向产线批量供应。

业内人士表示,东进半导体在其位于京畿道的华城工厂开发了EUV光刻胶,并在三星电子的华城EUV生产线进行了测试,最终获得了资格。两家公司的合作,使得EUV光刻胶能够以高技术水平快速开发。

据了解,光刻胶应用于芯片上,当用半导体曝光设备照射光时,会发生化学反应并改变物理性质,通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路,只留下必要的部分。虽然KrF和ArF氟化物工艺的光刻胶在韩国已经大量生产,但没有能够绘制更精细电路的EUV光刻胶。这是因为开发非常困难,韩国国内使用的EUV光刻胶大部分是从日本进口的。

据悉,2019年日本出台出口限制措施后,东进半导体开始利用自己的基础设施,如现有的氟化氩曝光机和比利时半导体研究所(IMEC)的EUV设备,将EUV光刻胶本土化。同时,三星提供了EUV测试环境并且成功提高了光刻胶质量,使其能够被成功应用。

虽然已经通过了测试,不过三星是否会在EUV生产线上立即使用东进半导体的EUV光刻胶还不确定,三星及东进拒绝进一步表态。

封面图片来源:拍信网