来源:全球半导体观察
6月26日晚间,拓荆科技发布上交所公告,公司正在筹划重大资产收购事项,拟以发行股份及支付现金相结合的方式,收购无锡尚积半导体科技股份有限公司控股权,并同步募集配套资金。
拓荆科技是国内前道薄膜沉积设备龙头企业,主营PECVD、ALD等化学气相沉积设备,产品广泛用于逻辑芯片、存储芯片、先进封装产线,是国内半导体设备国产化核心厂商。本次产业并购意在补齐产品线短板,完善薄膜与刻蚀设备布局。
标的公司无锡尚积半导体深耕半导体装备研发,主营半导体薄膜沉积与干法刻蚀设备,主力产品覆盖PVD物理气相沉积、CVD化学气相沉积、ETCH等离子刻蚀三大品类,设备已进入功率半导体、碳化硅器件、射频芯片、MEMS以及先进封装产线,多项特种薄膜工艺实现国产化量产。双方已签署股权收购意向协议,交易最终定价将以第三方资产评估结果为基础协商确定。
公告披露,本次交易尚处在筹划阶段,审计与评估工作尚未完成,交易对价、股份发行规模等核心方案仍在磋商,整体交易存在较大不确定性。经初步测算,本次收购不构成重大资产重组,也不构成关联交易。