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【制造/封测】南大光电光刻胶项目延期

来源:全球半导体观察    原作者:Kiki    

南大光电近日发表公告称,公司募投项目“光刻胶项目”受到多重因素影响,计划将建设完成期限由原计划2021年12月31日延长至2022年12月31日。公司将继续通过统筹协调全力推进,力争早日完成该项目建设。

具体原因方面,南大光电在公告中指出,项目在实际投入过程中受到新冠疫情、客户验证需求变化、公司实际经营情况等多重因素的影响,尤其是项目所需的缺陷检测等关键设备采购周期延长,安装、调试工作也相应后移,导致该项目建设进度不及预期。

他们同时强调,截至2021年12月31日,项目已累计投入45,316.28万元,全部由公司自有资金出资。宁波南大光电在2021年具体实施项目时,为满足项目建设所需采购的付款进度需要,优先使用了自有资金投入建设。本项目剩余资金缺口,公司将继续使用募集资金15,000.00万元满足其投资需求。

据悉,南大光电ArF光刻胶开发和产业化,是为配合推动国家“02 专项”光刻胶技术开发及产业化项目的开展而设立,公司募投项目“光刻胶项目”总投资额为66,000.00万元,计划使用募集资金15,000.00万元。项目实施主体为公司控股子公司宁波南大光电材料股份有限公司(以下简称“宁波南大光电”)。主要包括两条建设内容:

图片来源:南大光电公告截图

先进光刻胶及高纯配套材料的开发和产业化

建设内容为建立光刻胶配套高纯显影液的规模化生产线,包括合成、纯化、分析、灌装等工艺的配套生产装置及分析检测设备;另外还将建设国内首个先进光刻胶分析测试中心,包含浸没式光刻机、涂胶显影一体机和 CD-SEM 等关键量测设备。项目完全达产后,将建成光刻胶研发中心、先进光刻胶的分析测试中心,以及年产 350吨的高纯显影液的生产线。

ArF光刻胶产品的开发和产业化

建立包含高等级超净间在内的ArF光刻胶生产线,具备ArF光刻胶产品的生产能力;建立ArF光刻胶配套关键组分材料的生产能力,完善光刻胶原材料的供应。项目完全达产后,将建成年产5吨ArF干式光刻胶的生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶的生产线以及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂的生产线。

南大光电公告同时指出,公司扩建2,000吨/年三氟化氮生产装置项目按原计划继续进行,建设期不变。

此外,近日在接受投资者提问“公司193nm光刻胶项目第二条生产线是否建设完毕,是否进行投产,如还未完工预计何时完工?”时,南大广电表示,公司目前已经建成了两条arf光刻胶生产线,合计产能为25顿。而公司的arf光刻胶也有少量发货。

公开资料显示,193nm光刻胶作为当前高端芯片制造中最为核心的原材料,被誉为半导体工业的“血液”,可以用于90nm~14nm技术节点的集成电路制造工艺。

在2021年6月末,南大光电表示公司已安装完成一条193nm光刻胶生产线,用于产品检测的光刻机也已完成安装,产线和光刻机均处于调试阶段。

封面图片来源:拍信网