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热搜 | 台积电用上英伟达计算光刻平台生产

来源:全球半导体观察       

“台积电用上英伟达计算光刻平台生产”这一话题登上百度热搜。

据多家媒体报道,美东时间10月8日,AI芯片大厂英伟达强调了同台积电在加速计算领域合作的成绩:其名为cuLitho的计算光刻平台正在台积电投入生产。

英伟达表示,cuLitho将加速计算引入计算光刻领域,将cuLitho投入生产使台积电能够加快下一代芯片技术的开发,而目前的生产流程正接近物理学的极限。台积电应用cuLitho进行生产可以提高制造下一代先进半导体芯片的速度,并突破物理限制。

2023年3月,英伟达宣布将加速计算引入计算光刻领域,使ASML、TSMC和Synopsys等半导体企业能够加速下一代芯片的设计和制造。


图片来源:英伟达官网

NVIDIA cuLitho是用于GPU加速计算光刻和半导体制造工艺,含有优化过的工具和算法的库,其速度比当前基于CPU的方法快几个数量级。

据官方介绍,cuLitho在GPU上运行时,性能比目前的光刻技术(在硅片上创建图案的过程)提高了40倍,加速了目前每年消耗数百亿CPU小时的海量计算工作负载。它使500个NVIDIA DGX H100系统能够实现40,000个CPU系统的工作,并行运行计算光刻过程的所有部分,有助于减少电力需求和潜在的环境影响。

短期内,使用cuLitho的晶圆厂每天可生产3-5倍的光掩模(芯片设计的模板),耗电量比当前配置少9倍。一个光掩模过去需要两周时间,现在一夜之间就能加工完成。从长远来看,cuLitho将实现更好的设计规则、更高的密度、更高的产量和人工智能光刻。

英伟达CEO黄仁勋彼时表示,“芯片行业是全球几乎所有其他行业的基础。光刻技术处于物理极限,NVIDIA推出cuLitho并与合作伙伴TSMC、ASML和Synopsys合作,使晶圆厂能够提高产量、减少碳足迹,并为2nm及以后奠定基础。”

封面图片来源:拍信网