2019-07-02
当前半导体制程微缩已经来到10纳米节点以下，EUV极紫外光光刻技术已成为不可或缺的设备，包括现在的7纳米制程，以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程...
2019-06-10
在先进制程纳米节点持续微缩下，光刻机是重要关键设备。12寸晶圆主要光刻机为ArF immersion机台，可覆盖45nm一路往下到7nm节点的使用范围，其雷射光...
2019-06-10
晶圆制造产业进入7纳米制程之后，目前全世界仅剩台积电与三星，再加上号称自家10纳米制程优于竞争对手7纳米制程的英特尔等，有继续开发能力之外，其他竞争者...
2019-05-29
近日，智光电气在投资者互动平台上透露，其参股的广州粤芯半导体采购了荷兰ASML（艾司摩尔）光刻机，并且于今年3月中旬搬进了粤芯半导体主厂房...
2019-04-18
SML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)表示，由于EUV系统出货量和DUV获利能力优于计划，第一季的销售额和毛利率略高于业绩指引(guidance)。逻辑芯片客户对于技术节点转换的强劲需求将带动公司在2019年加速增长。
2019-04-03
目前最先进的EUV光刻工艺使用的是13nm光源，能够满足7nm线宽制程工艺的要求。全球能够达到这种水平的光刻机制造商暂时只有一家——ASML。
2019-01-24
1月23日，全球光刻机巨头ASML发布其2018年第四季度及全年业绩。数据显示，2018年第四季度ASML实现净销售额31亿欧元，净收入7.88亿欧元，毛利率为44.3%...
2018-12-21
此前，光刻机霸主艾司摩尔（ASML）中国区总裁沈波在中国集成电路制造年会上表示，今年下半年艾司摩尔已开始出货家族最先进的NXT2000i，很快会在中国...
2018-10-30
随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑...
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