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关键词:EUV光刻机

【IC设计】台积电等厂冲刺高端制程 ASML代工厂帆宣新厂Q1投产业绩大增

台积电等大厂冲刺高端制程,带动新一代极紫外光(EUV)设备需求大增,EUV设备龙头艾司摩尔(ASML)看好,今年EUV系统设备出货将较去年倍增。帆宣为...

ASML 台积电 EUV光刻机

IC设计

【存储器】2018年电子行业十大关键词预测:AI引领新的潮流

回顾2017年,这一年电子行业涌现出许多革命性的新技术和新产品,也发生过很多引起业界震动的大事件...

人工智能 EUV光刻机 物联网IoT

存储器

【IC设计】半导体市场热络艾司摩尔2017年第4季营收创新高

全球重要的半导体设备供应商艾司摩尔(ASML),在17日公布2017年第4季的财报。根据财报显示,2017年第4季营收较第3季增加4.7%,金额来到25.61亿欧元...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】摩尔定律的救星:EUV将光刻步骤大幅缩减

尽管如此,芯片制造商仍在向前迈进。电子束技术公司D2S的首席执行官Aki Fujimura和另一名相关技术专家表示:“EUV的使用者们正在定义它的用途...

摩尔定律 EUV光刻机 芯片技术

IC设计

【IC设计】格罗方德公布7纳米制程信息 预计较14纳米提升40%效能

在日前的2017年国际电子元件会议(IDEM 2017)上,晶圆代工大厂格罗方德(GlobalFoundries)公布了有关其7纳米制程的详细资讯。与当今用于AMD...

晶圆代工 格罗方德 EUV光刻机

IC设计

【存储器】三星抢EUV是为存储器?传拟后年量产10纳米DRAM

韩国方面的新消息说,三星大买EUV,不只用于晶圆代工,也会用于存储器,计划抢先同业,2019年初量产10纳米DRAM。业界人士表示,三星考虑在韩国华城厂增建EUV设备专用的DRAM产线...

DRAM 三星电子 EUV光刻机

存储器

【IC设计】没有EUV 中国如何实现半导体产业强国之梦?

国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机(EUV)的关注度大幅提升。此后又有媒体宣称,国外政府将对中国购买EUV实施限制,更是吸引了大量公众的目光。一时之间,仿佛EUV成为了衡量中国半导体设备产业发展水平的标杆,没有EUV就无法实现半导体强国之梦。

半导体 晶圆制造 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】台积电30年之际 传三星要“抢光”7纳米生产设备!

有韩媒报导指出,三星将买断半导体生产设备,抢光7纳米晶圆制程的最重生产设备EUV机台。

台积电 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】卡尔蔡司镜头供应不足 艾司摩尔EUV设备生产不顺

外媒报导指出,艾司摩尔EUV的光学镜头是德国蔡司公司所生产。但是,由于蔡司的镜头供货量不足,导致艾司摩尔的EUV极紫外光微影设备生产进度缓慢。

晶圆制造 蔡司镜头 EUV光刻机

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