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关键词:EUV光刻机

【IC设计】差距很大!又斥巨资买光刻机,国产半导体设备困境如何解?

近日,国内几家于2015—2016年投资建设的半导体制造厂开始进入密集的设备移入期。5月20日,上海华力二期建设的华虹六厂搬入了首台荷兰阿斯麦公司...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】国内光刻机产业镜鉴

ASML中国区总裁金泳璇今年年初曾透露,已有大陆晶圆厂巨头与 ASML展开7nm工艺制程的 EUV订单洽谈,2019年大陆首台EUV可望落地,并表示对在中国客户...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】北方华创:14nm设备正加速研发 现在、未来都不会开发光刻机

据北方华创透露,其半导体设备的主要客户有中芯国际、武汉新芯、三安光电、华力微、京东方等,在长江存储的公开招标中已中标两台PVD和两台清洗机,还有...

半导体设备 北方华创 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】中芯国际向艾司摩尔订购新型EUV 2019年交货

据荷兰媒体报道,日本的一个新闻网站Nikkei Asian Review引述消息称,全球最大的芯片机器制造商、荷兰的艾司摩尔(AMSL)证实,中国发出了第一张订单...

ASML 中芯国际 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】台积电加速在7纳米强化版导入极紫外光进程 年底或建构试产线

台积电为防堵强敌三星在7纳米导入极紫外光(EUV)及后段先进封装,抢食苹果新世代处理器订单,已加速在7纳米强化版导入极紫外光时程。供应链透露...

ASML 台积电 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】发展先进工艺EUV必不可少 切入点须讲究

目前,世界半导体制造龙头三星、台积电均已宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机...

半导体设备 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】家登精密董事长兼CEO邱铭乾:技术积累是设备产业发展重点

载具对于曝光机发挥保护、运送和存储光罩等功能十分重要。家登精密多年来致力于研究曝光机载具,并为全球最大的半导体设备制造商ASML提供载具相关技术。

ASML 半导体设备 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】莫大康:台积电兴建全球第一个5纳米芯片生产线

不管如何,在张忠谋缷任之前,台积电公布它的5纳米建厂计划,是全球第一,占了先机,它的意义非凡。也反映台积电的雄心,要争全球第一,不惧英特尔,三星等的压力。

台积电 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】艾司摩尔第16次登半导体微影设备龙头 预计今年产量扩大到24台

研究资料显示,2017年全球半导体光刻设备,荷兰厂商艾司摩尔(ASML)仍以85%的市占率稳居龙头,其次是日本厂商尼康(Nikon)的10.3%,以及佳能(Canon)的...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

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