2019-05-29
近日，智光电气在投资者互动平台上透露，其参股的广州粤芯半导体采购了荷兰ASML（艾司摩尔）光刻机，并且于今年3月中旬搬进了粤芯半导体主厂房...
2019-05-27
日前，华虹半导体（无锡）有限公司12英寸生产线建设项目（以下简称“华虹无锡项目”）迎来了首台工艺设备搬入。根据计划，该项目将于6月5日进行首批...
2019-05-14
半导体龙头英特尔也确定开始进入10纳米时代，预计采用10纳米产品将在6月开始出货。同时，英特尔将加速支援EUV技术的7纳米制程研发，预期2021年可望进入量产阶段，首款代表性产品将是Xe架构绘图芯片。
2019-04-29
三星即将在 30 日推出由 7 纳米 EUV 制程所量产的自家 Exynos 行动处理器，相信就是目前市场上传说的新一代 Exynos 9825 行动处理器，以抢得市场上首先发表的 7 纳米 EUV 制程的首个处理器名号。
2019-04-20
4月16日，三星官网发布新闻稿，宣布已经完成5纳米FinFET工艺技术开发，现已准备好向客户提供样品，已开始向客户提供5纳米多项目晶圆服务...
2019-04-16
4月16日，三星官网发布新闻稿，宣布已经完成5纳米FinFET工艺技术开发，现已准备好向客户提供样品。与7纳米工艺相比，三星的5纳米FinFET工艺技术提供了高达25%的逻辑面积效率提升。
2019-04-16
双光束超衍射极限光刻系统目前主要应用于微纳器件的三维光制造，未来随着进一步提升设备性能，在解决制造速度等关键问题后，该技术将有望应用于集成电路制造。
2019-04-12
韩国媒体报导，三星将从 2019 年的 6 月份开始，量产 7 纳米 EUV 制程，首项产品就是自家的 Exynos 9825 处理器，并且用于 2019 年下半年的预计推出的旗舰型 Galaxy Note 10 系列智能型手机。
2019-04-03
目前最先进的EUV光刻工艺使用的是13nm光源，能够满足7nm线宽制程工艺的要求。全球能够达到这种水平的光刻机制造商暂时只有一家——ASML。
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