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关键词:EUV光刻机

【IC设计】ASML今年营收成长上看25% EUV累积未出货订单已达27台

半导体微影技术大厂艾司摩尔(ASML)公布2017第二季财报。

ASML 存储芯片 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】光机所承担重大专项极紫外光刻关键技术研究通过验收

6月21日,“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项(02专项)实施管理办公室组织专家在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫外光刻关键技术研究”项目验收会。

集成电路 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】格罗方德7nm工艺细节:最大芯片尺寸700mm² 2018年量产

半导体公司格罗方德最近公布了有关其7nm制造工艺的细节。

格罗方德 半导体芯片 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】三星将先于台积电引入EUV工艺 在先进工艺上赢得领先优势

台积电因连续在14/16nmFinFET、10nm工艺上落后于三星,其急于在7nm工艺上取得领先优势。

三星电子 台积电 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】台积电三星拼7纳米制程 ASML极紫外光设备订单持续涌入

全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔 (ASML) 公布今年第一季财报,季营收19.4亿欧元

ASML 三星电子 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】ASML Q1营收净额19.4亿欧元 EUV系统未出货订单已达21台

ASML Q1营收净额19.4亿欧元 EUV系统未出货订单已达21台

ASML EUV光刻机

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