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关键词:EUV光刻机

【IC设计】新思科技携手中科院微电子所成立EUV光刻仿真联合实验室

11月27日,新思科技与中国科学院微电子研究所强强联手,正式组建“EUV光刻仿真联合实验室”并举行揭牌仪式。双方联合宣布将在北京合作共建国际一流...

EUV光刻机 中科院微电子所 新思科技Synopsys

IC设计

【IC设计】Cadence宣布以三星7LPP制程生产GDDR6 IP芯片成功流片

在人工智能,自驾车需求越来越大的情况下,显示卡存储器的发展也越来越积极。日前,Cadence就宣布,已经在三星的7LPP制程技术上成功流片GDDR6的IP芯片...

存储芯片 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】ASML、IMEC联合研发第二代EUV光刻机 3nm工艺的救星?

随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑...

ASML EUV光刻机

IC设计

【IC设计】台积电7纳米+EUV制程将代工麒麟990,2019年Q1流片

日前,才在英国伦敦发布会上展出4款Mate 20系列手机,以及新款麒麟980处理器的华为,根据外电报导,更新一代的麒麟990处理器也已经发展到一个阶段...

台积电 EUV光刻机 麒麟芯片

IC设计

【IC设计】ASML明年将出货30台EUV光刻机 新一代设备产能提升24%

台积电前不久试产了7nm EUV工艺,预计明年大规模量产,三星今天宣布量产7nm EUV工艺,这意味着EUV工艺就要正式商业化了,而全球最大的光刻机公司...

ASML EUV光刻机

IC设计

【IC设计】三星宣布量产内建EUV技术7纳米LPP制程 性能增加20%

晶圆代工大厂三星宣布,正式开始使用其7纳米LPP制程制来生产晶圆。三星的7纳米LPP制程中使用极紫外光刻(EUV)技术,这将使三星7纳米LPP制程能够明...

三星电子 芯片 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】台积电7+纳米明年Q2量产 5纳米研发进度超前

晶圆代工龙头台积电持续冲刺先进制程,采用极紫外光(EUV)微影技术的首款7+纳米芯片已经完成设计定案(tape-out),支援最多4层EUV光罩。台积电...

台积电 晶圆代工 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】ASML看好中国市场:最先进光刻机很快将入华

中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加,他出面解答了一些媒体关心的话题。尽管UMC(联电)和Globalfoundries...

ASML IC制造 EUV光刻机

IC设计

【IC设计】解决集成电路“掐脖子”问题,光刻机这篇文章怎么做?

光刻机就是集成电路这个基础性产业中最具关键性的基础装备之一。要想解决我国集成电路产业发展中的“掐脖子”问题,推动光刻机的国产化势在必...

集成电路 半导体设备 EUV光刻机

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