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EUV光刻机相关资讯

台积电3nm EUV工艺进展顺利,已有早期客户参与

尽管今年下半年才能见到7nm EUV工艺制造的芯片,但根据Anandtech的报道称,台积电的3nm EUV工艺发展顺利,而且已经有早期客户参与...

台积电 EUV光刻机

制造/封测

ASML:Q2售出10台EUV 下半年7纳米以下制程投资强劲

Peter Wennink强调,逻辑芯片市场的需求主要来自于客户加速7纳米及以下先进制程节点的投资。而ASML在2019年第2季总计接获10台EUV极紫外光系统的订单...

ASML EUV光刻机

材料/设备

ASML开发新一代EUV设备 预计2025年量产

当前半导体制程微缩已经来到10纳米节点以下,EUV极紫外光光刻技术已成为不可或缺的设备,包括现在的7纳米制程,以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程...

ASML EUV光刻机

材料/设备

SK海力士及美光等DRAM厂评估采用EUV技术

继台积电、三星晶圆代工、英特尔等国际大厂在先进逻辑制程导入极紫外光(EUV)微影技术后,同样面临制程微缩难度不断增高的DRAM厂也开始评估采用EUV技术...

DRAM EUV光刻机

制造/封测

新时代,“芯”动能!华虹无锡厂打破全球Fab建厂速度纪录

6日,位于无锡高新区的华虹无锡集成电路研发和制造基地(一期)建设项目迎来令人振奋的一刻:随着首批光刻机的搬入,华虹七厂顺利进入工艺设备安装调试阶段...

华虹集团 EUV光刻机

制造/封测

半导体先进制程发展扩大EUV市场需求,ASML可望持续受惠

在先进制程纳米节点持续微缩下,光刻机是重要关键设备。12寸晶圆主要光刻机为ArF immersion机台,可覆盖45nm一路往下到7nm节点的使用范围,其雷射光...

ASML 半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

为什么ASML一年最高产量只有30部EUV?

晶圆制造产业进入7纳米制程之后,目前全世界仅剩台积电与三星,再加上号称自家10纳米制程优于竞争对手7纳米制程的英特尔等,有继续开发能力之外,其他竞争者...

ASML 晶圆制造 EUV光刻机

材料/设备

华虹无锡基地首批光刻工艺设备进场,9月试生产

2019年6月6日,华虹无锡集成电路研发和制造基地(一期)12 英寸生产线建设项目首批三台光刻机搬入仪式举行。光刻设备的搬入标志着华虹无锡基地项目...

集成电路 华虹半导体 EUV光刻机

制造/封测

光刻机的蜕变及专利分析

近两年,中国芯片产业受到了严重打击,痛定思痛之余也让国人意识到芯片自主研发的重要性。从2008年以来,十年间,芯片都是我国第一大宗进口商品,进口额远超于...

半导体设备 EUV光刻机

材料/设备

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