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三星相关资讯

三星官宣:完成5纳米EUV工艺研发,将向客户提供样品

4月16日,三星官网发布新闻稿,宣布已经完成5纳米FinFET工艺技术开发,现已准备好向客户提供样品。与7纳米工艺相比,三星的5纳米FinFET工艺技术提供了高达25%的逻辑面积效率提升。

三星 EUV光刻机

IC设计

台积电全力推动5nm晶圆厂生产

晶圆代工龙头台积电计划在今年启动全球首座5纳米晶圆厂,近日宣布制程进入试产阶段,虽然因景气状况传出厂房投片速度可能放缓,供应链相关人士表示,台积电仍在全力推动5纳米晶圆厂生产状态。

三星 台积电 晶圆代工

IC设计

三星将推自家 8 纳米打造 Exynos 9710 中阶处理器

三星 Exynos 9710 中阶处理器虽然即将发表,依三星过往惯例,可能要有新一代中阶手机问世才有机会看到。至于其他品牌手机采用的机率,更是微乎其微,市场也只能体验到号称 Exynos 9710 的竞争对手——高通骁龙 660 或骁龙 675 等产品。

三星 Exynos处理器

IC设计

三星发财报预警 Q1获利恐不如预期

根据彭博社报导,三星今 (26) 发出警告表示,第一季业绩可能不如市场预期,因为面板和存储器市场疲软。三星将在下个月初公布业绩,而在业绩公布前提早宣布获利的警讯让市场大出意外,而三星股价在开盘时下滑约 1%。

三星

存储器

三星宣布推出1Z纳米制程 DRAM,2019 年下半年开始大量生产

在动态随机存取存储器(DRAM)制程陆续进入 1X 及 1Y 制程领域之后,全球 DRAM 龙头南韩三星 21 日宣布,首次业界开发第 3 代 10 纳米等级(1Z 纳米制程)8GB 高性能 DRAM。

DRAM 三星 内存

存储器

三星推出符合HBM2E规范的Flashbolt内存 可用于GPU

三星的Flashbolt KGSD基于八个16-Gb存储器晶元,这些晶元使用TSV(通过硅通孔)以8-Hi堆栈配置互连。每个Flashbolt封装都具有1024位总线,每个引脚的数据传输速率为3.2 Gbps,因此每KGSD可提供高达410GB/s的带宽。

三星 内存

存储器

第一季全球前十大晶圆代工营收排名出炉,台积电市占率达48.1%

反观以8英寸晶圆代工为主要业务的高塔半导体、世界先进、华虹半导体、东部高科等业者,尽管8英寸晶圆代工产能供不应求的现象已渐舒缓

三星 台积电 晶圆代工

IC设计

三星强攻先进制程 智原进补

三星晶圆代工亦加快先进制程布局,包括8纳米及7纳米逻辑制程进入量产后,今年将推进至采用EUV技术的5/4纳米,以及支援嵌入式磁阻随机存取存储器(eMRAM)的28纳米全耗尽型绝缘层上覆硅(FD-SOI)制程进入量产,并会在今年推进至18纳米。

三星 晶圆代工 EUV光刻机

IC设计

10nm工艺,三星正式量产12GB LPDDR4X

三星 (Samsung) 14日正式宣布开始量产大容量行动式DRAM——业界首款12GB LPDDR4X。新款内存适用于未来的高端智能手机,具有比大多数笔记本电脑更大的容量,将带来更极致的性能体验。

三星 存储芯片 行动式内存

存储器

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